特許
J-GLOBAL ID:200903039438322379

面型半導体レーザ装置及び面型半導体レーザ装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内原 晋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-000604
公開番号(公開出願番号):特開平5-021888
出願日: 1991年01月08日
公開日(公表日): 1993年01月29日
要約:
【要約】【目的】面型半導体レーザ装置の出射ビームの拡がりを抑制する【構成】面型半導体レーザ装置の半導体層内にレンズをモノリシックに形成して出射ビームの集光性を向上した。
請求項(抜粋):
第1導伝型半導体基板表面に活性層、この活性層上に第2導伝型のクラッド層を少なくとも有し、中心部の反射率が他の部分よりも低くなるよう設定してある第1の多層膜反射鏡を前記第1導伝型半導体基板裏面に備え、前記第2導伝型のクラッド層上に集光機能を有するレンズを有し、前記レンズ上に前記レンズの焦点位置と一致する位置に第2の多層反射膜を有することを特徴とする面型半導体レーザ装置。

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