研磨用組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-097247
公開番号（公開出願番号）：特開2004-300347
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】研磨速度を一層向上させることができる研磨用組成物を提供する。【解決手段】研磨用組成物は、(A)ポリアルキレンオキサイドのヒドロキシル基と、当該ヒドロキシル基と反応する他の反応成分の官能基との反応生成物、(B)酸化アルミニウム、(C)無機酸及び有機酸から選ばれる少なくとも一種の金属塩又はアンモニウム塩からなる研磨促進剤及び(D)水を含有する。そして、被研磨面を(B)及び(C)の各成分により研磨し、成分(A)により研磨速度を一層向上させる。成分(A)はポリアルキレンオキサイドがエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの共重合体であるのが好ましく、他の反応成分がグリセリンであるのがより好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記の(A)、(B)、(C)及び(D)の各成分を含有することを特徴とする研磨用組成物。 (A):ポリアルキレンオキサイドのヒドロキシル基と、当該ヒドロキシル基と反応する他の反応成分の官能基との反応生成物 (B):酸化アルミニウム (C):無機酸及び有機酸から選ばれる少なくとも一種の金属塩又はアンモニウム塩からなる研磨促進剤 (D):水

IPC (2件)：

C09K3/14 , B24B37/00

FI (3件)：

C09K3/14 550Z , C09K3/14 550D , B24B37/00 H

Fターム (3件)：

3C058AA07 , 3C058CB03 , 3C058DA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

研磨用組成物、およびそれを用いてメモリーハードディスクを研磨する研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-362739 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
遊離砥粒スラリー組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-113327 出願人：東京磁気印刷株式会社, ティーディーケイ株式会社
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-154894 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

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