特許

J-GLOBAL ID：200903039445365822

ポリオレフィン製造用触媒成分およびポリオレフィン製造用触媒

発明者： 石垣 聡 ,  日隈 新次 ,  稲沢 伸太郎
出願人/特許権者： 日本ポリオレフィン株式会社
代理人 (1件)： 大家 邦久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-108658
公開番号（公開出願番号）：特開平10-298222
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：

【要約】【目的】 高分子量かつ分子量分布の狭いポリオレフィンをファウリングを発生することなく、粒子状で与えることが可能なポリオレフィン製造用触媒の提供。【構成】 [M1(R1)a(R2)b(R3)c(R4-L)d]-・[D]+ (1)で表されるイオン性化合物および平均粒子径が50μm以下の微粒子担体を接触させて得られるポリオレフィン製造用助触媒成分およびそれを含有するポリオレフィン製造用触媒。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】 [M1(R1)a(R2)b(R3)c(R4-L)d]-・[D]+ (1)(式中、M1はホウ素またはアルミニウムであり、R1、R2およびR3は、互いに同一でも異なってもよく、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、アルコキシ基、フェノキシ基またはハロゲン原子であり、R4は炭素数1〜20のヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基であり、Lはシリル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはアミノ基であり、a〜cは0または1〜3の整数、dは1〜4の整数で、かつa+b+c+d=4であり、Dは1価のカチオンである。)で示されるイオン性化合物(A)および平均粒子径が50μm以下の微粒子担体(B)を接触させて得られるポリオレフィン製造用触媒成分。

IPC (2件)：

C08F 4/653 ,  C08F 10/00

FI (2件)：

C08F 4/653 ,  C08F 10/00