特許
J-GLOBAL ID：200903039448338796
複合型磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-004515
公開番号（公開出願番号）：特開平9-198624
出願日： 1996年01月16日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】【課題】バックギャップ部にギャップ膜のリフトオフ残り及びフェンスがない複合型磁気ヘッドを得る。さらに記録不良の少ない複合型磁気ヘッドを提供する。【解決手段】磁気抵抗効果型ヘッド形成後に薄膜磁気ヘッドを形成する複合型磁気ヘッドにおいて、薄膜磁気ヘッドの下部磁気コアを兼用する所定の形状にパタ-ニングされた上部シ-ルド5の少なくとも誘導型磁気ヘッドのバックギャップが形成される周辺に上部シ-ルド5とほぼ同じ高さの段差解消層8を形成する。上部シ-ルド上でのリフトオフレジストを膜厚を均一かつ所望の厚さに塗布でき、安定にギャップ膜リフトオフ用のリフトオフレジストパタ-ンを形成できる。
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも下部シ-ルド、下部ギャップ、磁気抵抗効果素子、電極、上部ギャップ及び上部シ-ルドを有する磁気抵抗効果型ヘッドを形成し、磁気抵抗効果型ヘッドの上部に、薄膜磁気ヘッド用ギャップ、信号コイル、コイル絶縁層、上部磁気コアを有する薄膜磁気ヘッドを形成している複合型磁気ヘッドにおいて、前記コイル絶縁層は前記薄膜磁気ヘッド用ギャップを分断してバックギャップを形成しており、前記上部シ-ルドは少なくとも該バックギャップが形成される周辺に前記上部シ-ルドと上部ギャップとの段差を解消するように上部シ-ルドとほぼ同一の高さの段差解消層を有することを特徴とする複合型磁気ヘッド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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