処理装置及び処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-384805
公開番号（公開出願番号）：特開2003-181361
出願日： 2001年12月18日
公開日（公表日）： 2003年07月02日
要約：

【要約】【課題】基板端縁の塗膜の除去に際して、塗膜へのにじみを良好に防止すること。【解決手段】溶剤により塗膜を除去する前に、基板端縁の塗膜を乾燥させておく。これにより、溶剤が乾燥した塗膜に邪魔されてにじみを防止できる。

請求項（抜粋）：

表面に塗膜が形成された基板を処理する処理装置であって、前記基板の端縁部分の前記塗膜を除去するために、前記端縁部分に溶剤を吐出する吐出手段と、前記塗膜に気体を吹き付ける吹付手段と、を備え、前記吹付手段は、前記塗膜のうち、少なくとも前記端縁部分とその他の部分との境界部分に、該境界部分の前記塗膜の乾燥を促進するように気体を吹き付けると共に、前記吐出手段による前記溶剤の吐出前に前記気体を吹き付けることを特徴とする処理装置。

IPC (6件)：

B05C 11/10 , B05B 1/00 BBU , B05C 5/00 101 , B05D 3/10 , G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 11/10 , B05B 1/00 BBU Z , B05C 5/00 101 , B05D 3/10 N , G03F 7/42 , H01L 21/30 577

Fターム (50件)：

2H096AA25 , 2H096CA14 , 2H096DA10 , 2H096JA02 , 2H096LA02 , 4D075BB57Z , 4D075BB69Z , 4D075BB93Z , 4D075BB95Z , 4D075DA06 , 4D075DC21 , 4D075DC22 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EC30 , 4F033AA14 , 4F033BA01 , 4F033BA03 , 4F033CA04 , 4F033EA05 , 4F033LA01 , 4F033LA11 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AA06 , 4F041AB02 , 4F041AB08 , 4F041BA54 , 4F041BA59 , 4F042AA01 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042AA10 , 4F042BA03 , 4F042BA08 , 4F042BA19 , 4F042BA26 , 4F042CC03 , 4F042CC06 , 4F042CC09 , 4F042CC10 , 4F042CC15 , 5F046JA02 , 5F046JA03 , 5F046JA07 , 5F046JA09 , 5F046JA15 , 5F046JA22 , 5F046JA24 , 5F046JA27

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