投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-179048
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027736
出願日： 1996年07月09日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】本発明は、投影光学系の結像特性を測定できる投影露光装置に関し、投影光学系のディストーション及びレチクル製造誤差を高精度で計測することができる機能を備えた投影露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】露光用の照明光源1からの照明光ILはコリメータレンズ2に入射してレチクルRを照明する。レチクルRを通過した光束は投影光学系PLで集束される。ウェハステージWST上には、投影光学系PLのディストーションを計測するステージセンサ部5が設けられている。ステージセンサ部5の基板17上面には複数の開口部が設けられている。ディストーション計測の際にはウェハステージWSTを所定量移動させてステージセンサ部5を投影光学系PL下方に位置させる。ステージセンサ部5は、その下部にステージセンサ部5の複数の開口部に入射した光を受光する複数の光電変換素子で構成されるステージセンサ6を有している。

請求項（抜粋）：

2次元的に配列された複数の所定形状のマークが形成されたレチクルを照明する照明手段と、前記各マークの像をステージ上に投影する投影光学系と、前記ステージ上に設けられ、前記各マークの像の各結像位置にそれぞれ対応して2次元的に配置された複数の開口部が形成された基板を有し、前記各マークの像と前記複数の開口部とを相対的に走査して前記各開口部により前記各マークの像をそれぞれ光電検出する光電検出手段とを備え、前記投影光学系の前記基板面上での光学特性を2次元的に検出することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66

FI (8件)：

H01L 21/30 516 C , G03F 1/08 P , G03F 7/20 521 , H01L 21/66 Y , H01L 21/66 J , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 522 D , H01L 21/30 523

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