特許
J-GLOBAL ID:200903039458567130

積層膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 則近 憲佑
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-033877
公開番号(公開出願番号):特開平5-234754
出願日: 1992年02月21日
公開日(公表日): 1993年09月10日
要約:
【要約】【目的】 磁気抵抗効果素子に適した積層膜の飽和磁場を低減することを目的とする。【構成】 本発明の積層膜は、各々の厚さが2〜20Aの2種類以上の異る組成の強磁性単層を積層して形成された強磁性層と、8〜70Aの非強磁性層とが交互に積層された構造を持つことを特徴とする。
請求項(抜粋):
各々の厚さが2〜20Aの2種類以上の異る組成の強磁性単層を積層して形成された強磁性層と、8〜70Aの非強磁性層とが交互に積層された構造を持つことを特徴とする積層膜。
IPC (4件):
H01F 10/30 ,  H01F 10/14 ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/18

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