特許
J-GLOBAL ID：200903039463431484
シリカ系填料の製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-273601
公開番号（公開出願番号）：特開2000-096487
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：
【要約】【課題】 安価なケイ酸ナトリウム等を原料として使用し、簡便に、効率良く、空隙の多いシリカ系填料を製造する方法を提案することを課題とする。また、その填料を配合した紙に優れた印刷後不透明度を付与し得るシリカ系填料を提供することを課題とする。【解決手段】 ケイ酸アルカリ水溶液に鉱酸を添加して中和することによりシリカを析出せるシリカ系填料の製造方法において、平均直径が0.1〜10μmの微細気泡の存在下でシリカを析出させる。気泡は機械的撹拌を施すことにより発生できる。
請求項（抜粋）：
ケイ酸アルカリ水溶液に鉱酸を添加して中和することによりシリカを析出せるシリカ系填料の製造方法において、平均直径が0.1〜10μmの微細気泡の存在下でシリカを析出させることを特徴とするシリカ系填料の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
4G072AA25
, 4G072GG03
, 4G072HH21
, 4G072JJ13
, 4G072JJ15
, 4G072KK15
, 4G072LL06
, 4G072LL07
, 4G072MM01
, 4G072MM02
, 4G072RR06
, 4G072UU07
, 4G072UU25
, 4L055AG18
, 4L055AG94
, 4L055AH01
, 4L055FA12
