特許

J-GLOBAL ID：200903039464069290

ICP光源装置

発明者： 岡田 幸治
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 西岡 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-223413
公開番号（公開出願番号）：特開2002-039944
出願日： 2000年07月25日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】 プラズマチェンバを冷却するにあたって、冷却のための装置を特別に用意しなくてもプラズマチェンバを冷却できるICP光源装置を提供する。【解決手段】 プラズマトーチ2にクーラントガスを供給するクーラントガス導入管6をプラズマチェンバ1に取り付けられた冷却ブロック10中に、プラズマチェンバ1の外周を巻回するようにして埋設すると共に、クーラントガスを断熱膨張させる手段として、その圧力を定める電磁マスフロー(定差圧調整弁)12aをプラズマチェンバ1に近接して、即ち巻き付け開始直前のクーラントガス導入管6に配設し、クーラントガスが断熱膨張する際の温度低下を利用することによってプラズマチェンバ1を冷却する。

請求項（抜粋）：

プラズマチェンバで溶液試料を霧化してプラズマトーチに導入し、高周波誘導結合放電によって励起発光等を行うICPのための光源装置において、前記プラズマトーチに供給されるクーラントガスの導入管を前記プラズマチェンバ外周に巻き付けると共に、その巻き付け直前の同導入管にクーラントガスを断熱膨張させる手段を設けたことを特徴とするICP光源装置。

IPC (4件)：

G01N 21/73 ,  G01N 27/62 ,  H05H 1/28 ,  H05H 1/30

FI (4件)：

G01N 21/73 ,  G01N 27/62 G ,  H05H 1/28 ,  H05H 1/30

Fターム (7件)：

2G043AA01 ,  2G043CA01 ,  2G043EA08 ,  2G043GA06 ,  2G043GA19 ,  2G043GB07 ,  2G043JA01