浸漬型膜処理設備における塩素供給方法およびその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：磯野道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-221470
公開番号（公開出願番号）：特開平10-057958
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】塩素の供給量をできるだけ少なく抑えながら、膜の目詰まりを防止し、かつ、塩素の添加によるトリハロメタンの増加を抑えることができる浸漬型膜処理設備における塩素供給方法およびその装置を提供する。【解決手段】濾過槽1と、この濾過槽内に浸漬され、濾過槽に供給した原水3の濾過を行うための膜モジュール2と、膜モジュールの下方に設けたエア供給用の散気管8とを有する浸漬型膜濾過設備において、前記濾過槽への原水の導入ラインaに低濃度塩素供給源10を設けると共に、物理洗浄時に濾過槽中へ直接塩素を供給するための供給ラインcに高濃度塩素供給源10′を設けて構成し、濾過槽1に供給される原水に常時低濃度の塩素を供給し、吸引ポンプ4停止後、膜モジュール2の下方からエアを噴出させて物理洗浄を行うときに、高濃度の塩素を濾過槽1内に効率的に供給する。

請求項（抜粋）：

膜モジュールを濾過槽内に浸漬し、吸引ポンプを作動させて濾過槽内の膜に原水を透過させ、原水の濾過を行う浸漬型膜濾過設備において、吸引ポンプを停止し、膜モジュールの下方からエアを噴出させて物理洗浄を行うときに、高濃度の塩素を濾過槽内に供給することを特徴とする浸漬型膜処理設備における塩素供給方法。

IPC (11件)：

C02F 1/44 , B01D 65/02 500 , B01D 65/02 520 , B01D 65/06 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 540 , C02F 1/50 560 , C02F 1/76

FI (11件)：

C02F 1/44 H , B01D 65/02 500 , B01D 65/02 520 , B01D 65/06 , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 510 B , C02F 1/50 520 B , C02F 1/50 531 N , C02F 1/50 540 A , C02F 1/50 560 E , C02F 1/76 A

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