特許

J-GLOBAL ID：200903039485408737

溶剤ガス処理装置及び溶剤ガス処理方法

発明者： 野田 晃 ,  道場 研二 ,  大石 剛郎
出願人/特許権者： 神鋼パンテツク株式会社
代理人 (1件)： 藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-258533
公開番号（公開出願番号）：特開平9-099210
出願日： 1995年10月05日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：

【要約】【課題】 処理効率が良く、且つ吸着剤を繰り返し使用することができる溶剤ガス処理装置及び溶剤ガス処理方法を提供することを課題とする。【解決手段】 溶剤を含む原ガスを導入し、吸着剤12を流動させながら前記原ガスと接触させて原ガス中の溶剤を吸着剤12に吸着させる吸着部4 を有する吸着塔1 を具備する溶剤ガス処理装置において、前記吸着剤12が高分子からなり、且つ前記吸着塔1 の上流側に原ガスを吸着塔1 内へ圧送すべくブロアー13が設けられたことを解決手段として有する。

請求項（抜粋）：

溶剤を含む原ガスを導入し、吸着剤(12)を流動させながら前記原ガスと接触させて原ガス中の溶剤を吸着剤(12)に吸着させる吸着部(4) を有する吸着塔(1) を具備する溶剤ガス処理装置において、前記吸着剤(12)が高分子からなり、且つ前記吸着塔(1) の上流側に原ガスを吸着塔(1) 内へ圧送すべくブロアー(13)が設けられたことを特徴とする溶剤ガス処理装置。

IPC (4件)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (3件)：

B01D 53/34 117 A ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ZAB