特許
J-GLOBAL ID：200903039494039213
構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
薄田 利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-132690
公開番号（公開出願番号）：特開平5-010969
出願日： 1991年06月04日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】【目的】 容量式加速度センサのエッチング技術による製造方法を提供する。【構成】 ウェハ601両面に対し、枠部403及び梁402付け根の丸みの原形となる部分にホトリソでマスクを形成し、異方性エッチングで質量部401の厚み枠部403の厚みより狭くし、質量部401となる部分にホトリソで絶縁膜606を形成し、さらに質量部及び枠部、梁部の原形部及び梁付け根の丸みの原形部にホトリソでマスクを形成し、異方性エッチングで少なくとも梁部402の厚さの半分以上の値に相当する段差を形成し、梁部402及び梁付け根の丸みの原形上のマスクだけを除去し、異方性エッチングで梁部402及び梁付け根の丸みとその周辺の貫通部を同時に形成する。【効果】 破壊強度の大きい形状の均一な容量式加速度センサの構成要部の中央層の加工が行なえる。
請求項（抜粋）：
ウェハをエッチングプロセスで加工して、ウェハの厚み方向に丸みを持つ部分を持つ構造体の製造方法であって、第1の異方性エッチングプロセスで所定のエッチングマスクを用いて上記丸みの深さに相当する値以上の段差を上記ウェハ上に形成し、第2の異方性エッチングプロセスで第1の異方性エッチングプロセスで用いたエッチングマスクの少なくとも一部を除去したエッチングマスクでエッチングすることを特徴とする構造体の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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