特許

J-GLOBAL ID：200903039499503600

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 千葉 一信 ,  佐藤 研一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316519
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150315
出願日： 1992年10月31日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【構成】 非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、雰囲気ガスを原子量20以下のガスと原子量20以上のガスとの混合ガスとし、且つ、前記原子量20以下のガスの流量を合計50モル%以下としてスパッタリングを行って保護膜を形成する。雰囲気ガスとしては、Arと、He,H2 ,N2 ,Kr,Xeから選ばれる少なくとも1種以上とを混合したものを用いる。【効果】 保護膜の成膜速度が速く生産性に優れ、作製された磁気記録媒体は優れたスチル耐久性と防錆特性を有するものとなる。

請求項（抜粋）：

非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、スパッタ法により保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、雰囲気ガスを原子量20以下のガスと原子量20以上との混合ガスとし、且つ、前記原子量20以下のガスの流量を合計50モル%以下としてスパッタリングを行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/85 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/84

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-071419
  
• 特開平4-129029
  
• 特開昭57-145977
  
• 特開平1-166321
  
• 特開平1-257198