特許
J-GLOBAL ID:200903039500594410
排ガスの処理方法及び処理装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
, 廣澤 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-351193
公開番号(公開出願番号):特開2006-159017
出願日: 2004年12月03日
公開日(公表日): 2006年06月22日
要約:
【課題】 排ガスに含まれるフッ素含有化合物を効率的かつ廉価に処理する方法及び装置を提供する。【解決手段】 本発明に係る排ガスの処理方法は、フッ素含有化合物を含む排ガスを反応槽4内に導入し、排ガスを反応槽4内で加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解し、反応槽4に水または水蒸気を直接供給することなく加水分解を行うものである。また、本発明に係る排ガスの処理装置は、フッ素含有化合物を含む排ガスに水を接触させて排ガスの前処理を行う前処理部1と、排ガスを加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解させる反応槽4とを備え、反応槽4に水または水蒸気を直接供給することなくフッ素含有化合物を加水分解させるものである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法であって、
排ガスを反応槽内に導入し、
排ガスを前記反応槽内で加熱しながら水または水蒸気と酸素との存在下でフッ素含有化合物を加水分解し、
前記反応槽に水または水蒸気を直接供給することなく前記加水分解を行うことを特徴とする排ガスの処理方法。
IPC (3件):
B01D 53/68
, B01J 23/30
, B01D 53/86
FI (4件):
B01D53/34 134C
, B01J23/30 A
, B01D53/36 G
, B01D53/36 Z
Fターム (40件):
4D002AA22
, 4D002AA26
, 4D002BA02
, 4D002BA05
, 4D002BA12
, 4D002CA01
, 4D002DA35
, 4D002DA70
, 4D002EA01
, 4D002EA02
, 4D002EA13
, 4D002GA03
, 4D002GB01
, 4D002GB03
, 4D002GB06
, 4D048AA11
, 4D048AB03
, 4D048AC06
, 4D048AC10
, 4D048BA03X
, 4D048BA08X
, 4D048BA27X
, 4D048BA41X
, 4D048BA42X
, 4D048CC61
, 4D048CD08
, 4D048CD10
, 4D048DA01
, 4D048DA10
, 4G169AA03
, 4G169BA01B
, 4G169BA05B
, 4G169BA20B
, 4G169BB04B
, 4G169BC60B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA10
, 4G169CA19
, 4G169DA06
引用特許:
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