特許

J-GLOBAL ID：200903039508339436

スチレン-ブタジエン・ブロックコポリマ-

発明者： アドルフォ・ツァンベリ ,  アルフォンソ・グラッシ ,  ミケーラ・カプリオ ,  ダニエル・エドワード・ボーウェン,ザ・サード
出願人/特許権者： ザ・グッドイヤー・タイヤ・アンド・ラバー・カンパニー
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362815
公開番号（公開出願番号）：特開2000-186127
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】【解決手段】 本発明は、)シンジオタクティックポリスチレン(sPS)ブロック及びシス-1,4-ポリブタジエン(pBd)ブロックを有するスチレン-ブタジエンブロックコポリマーが、約0°C〜約100°Cの範囲内の温度において、約10〜約50mmHgの範囲内の1,3-ブタジエン分圧で重合を実施するときに、ある触媒系を使用して合成できるという、予期されない発見に基づく。本発明はさらに詳細には、(a)sPSブロック及び(b)シス1,4-pBdブロックを含むスチレン-ブタジエンブロックコポリマーであって、シス1,4-pBdブロックは約20%以下のビニル含量を有し、sPSブロックは少なくとも50%のシンジオタクティック構造含量を有し、該ブロックコポリマーは少なくとも5つのsPSブロックを含み、そして該ブロックコポリマーは約10000〜約700000の数平均分子量を有する、

請求項（抜粋）：

(a)シンジオタクティックポリスチレンブロック及び(2)シス-1,4-ポリブタジエンブロックを含むスチレン-ブタジエンブロックコポリマーであって、シス-1,4-ポリブタジエンブロックが約20%以下のビニル含量を有し、シンジオタクティックポリスチレンブロックが少なくとも50%のシンジオタクティック微細構造を有し、ブロックコポリマーは少なくとも5つのシンジオタクティックポリスチレンブロックを有し、ブロックコポリマーは約10000〜約700000の範囲内の数平均分子量を有する、前記のスチレン-ブタジエンブロックコポリマー。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 共役ジエン系ブロック共重合体の製造方法、共役ジエン系ブロック共重合体、およびブタジエン系ブロック共重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-262785   出願人：工業技術院長, 財団法人化学技術戦略推進機構
• スチレン系ブロック共重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-122817   出願人：出光興産株式会社