特許
J-GLOBAL ID：200903039511019558
反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマーの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372467
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256458
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 反応性ケイ素基導入率の高いポリエーテルオリゴマーを効率よく短時間で製造する方法を提供すること。【解決手段】(a)1分子中に一般式(1):H2C=C(R1)-R2-O- (1)(式中R1は炭素数10以下の炭化水素基、R2は水素、酸素、及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)または一般式(2):HC(R1)=CH-R2-O- (2)(式中R1、R2は一般式(1)と同じ)で示される不飽和基を側鎖または末端に少なくとも1個含有し、主鎖がポリエーテルからなるポリエーテルオリゴマーと、(b)反応性ケイ素基含有化合物とを、(c)VIII族遷移金属触媒の存在下で反応させて、前記ポリエーテルオリゴマー(a)に反応性ケイ素基を導入する反応において、(d)硫黄化合物を存在させることを特徴とする、反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマーの製造方法。
請求項（抜粋）：
(a)1分子中に一般式(1):H2C=C(R1)-R2-O- (1)(式中R1は炭素数10以下の炭化水素基、R2は水素、酸素、及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)または一般式(2):HC(R1)=CH-R2-O- (2)(式中R1は炭素数10以下の炭化水素基、R2は水素、酸素及び窒素からなる群より選択される1種以上を構成原子として含有する炭素数1から20の2価の有機基)で示される不飽和基を側鎖または末端に少なくとも1個含有し、主鎖がポリエーテルからなるポリエーテルオリゴマーと、(b)反応性ケイ素基含有化合物とを、(c)VIII族遷移金属触媒の存在下で反応させて、前記ポリエーテルオリゴマー(a)に反応性ケイ素基を導入する反応において、(d)硫黄化合物を存在させることを特徴とする、反応性ケイ素基含有ポリエーテルオリゴマーの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C08G 65/336
, C07F 7/18 Y
