特許

J-GLOBAL ID：200903039516264941

誘電体酸化物薄膜形成用組成物、誘電体酸化物薄膜

発明者： 幸塚 広光 ,  白川 幸彦
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076770
公開番号（公開出願番号）：特開2002-274850
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】【課題】 長期安定性を有し、十分な厚さをもつコーティング薄膜の製造を可能とする誘電体酸化物薄膜形成用組成物、および誘電体酸化物薄膜を提供する。【解決手段】 ピロリドン基を有する親水性高分子と金属アルコキシドと金属塩がアルコール系溶媒中に分散されている誘電体酸化物薄膜形成用組成物であって、前記金属塩の金属が2価のアルカリ土類金属であり、前記アルコキシドの金属がTiまたはZrであり、前記アルコール系溶媒が、少なくともアルコールとキレート剤とを含有し、前記アルコールはエタノールである構成の誘電体酸化物薄膜形成用組成物とした。

請求項（抜粋）：

ピロリドン基を有する親水性高分子と金属アルコキシドと金属塩がアルコール系溶媒中に分散されている誘電体酸化物薄膜形成用組成物であって、前記金属塩の金属が2価のアルカリ土類金属であり、前記アルコキシドの金属がTiまたはZrであり、前記アルコール系溶媒が、少なくともアルコールとキレート剤とを含有し、前記アルコールはエタノールである誘電体酸化物薄膜形成用組成物。

IPC (2件)：

C01G 23/00 ,  C01G 25/00

FI (2件)：

C01G 23/00 C ,  C01G 25/00

Fターム (9件)：

4G047CA07 ,  4G047CB06 ,  4G047CC02 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G048AA05 ,  4G048AC02 ,  4G048AD02 ,  4G048AE08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特許第3161472号