特許
J-GLOBAL ID：200903039522368830
エキシマレーザ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-255478
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335961
出願日： 1994年10月20日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】ビームプロフィールの変動を確実且つ的確に防止する。【構成】所定種類のレーザガスがレーザチャンバ内に封入され、レーザチャンバ内で放電を行うことによりレーザガスを励起し、レーザ発振光を出力するエキシマレーザ装置において、出力されたレーザ光のビームプロフィールを検出するビームプロフィール検出手段と、ビームプロフィール検出手段の検出結果に基づいてビームプロフィールを一定または所望の形状にするように、充電電圧(励起強度)を制御するとともに、所定種類のレーザガスの組成または全圧を制御する制御手段とを具えている。すなわち、ビームプロフィールと充電電圧、そしてビームプロフィールとレーザガスの組成または全圧とは、それぞれ略比例関係にあるので、これら関係に基づいて充電電圧を制御したりガスの補給量等を調整することによって、ビームプロフィールを一定または所望形状に制御する。
請求項（抜粋）：
レーザガスがレーザチャンバ内に封入され、前記レーザチャンバ内で放電を行うことにより前記レーザガスを励起し、レーザ発振光を出力するエキシマレーザ装置において、出力されたレーザ光のビームプロフィールを検出するビームプロフィール検出手段と、前記ビームプロフィール検出手段の検出結果に基づいてビームプロフィールを一定または所望の形状にするように、充電電圧(励起強度)を制御する充電電圧(励起強度)制御手段とを具えたエキシマレーザ装置。
IPC (3件)：
H01S 3/10
, H01S 3/104
, H01S 3/225
