特許
J-GLOBAL ID：200903039544700137
気相成長装置の排気装置とその清浄化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-129852
公開番号（公開出願番号）：特開平6-342785
出願日： 1993年06月01日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：
【要約】【目的】 CVD装置の排気装置に関し、真空ポンプを取り外すことなく清浄化することを目的とする。【構成】 CVD装置の排気系を温度調節装置により加温状態に保つと共に、真空ポンプの給気側に洗浄液導入変換フランジを設け、バルブ切り換えによりフランジを通じて真空ポンプ内に酸水溶液,アルカリ水溶液,純水,有機溶剤,乾燥用ガスと順次に供給して洗浄し、真空ポンプ内の析出物を除去することを特徴として排気装置の清浄化方法を構成する。
請求項（抜粋）：
気相成長装置の排気系が、未反応の反応ガスと反応生成物を捕獲するガストラップと真空ポンプのモータを除き保温可能に構成されており、排気系の温度調節を行なう温度調節装置と、複数の洗浄液を順次に供給可能な洗浄液供給部と、該洗浄液を真空ポンプに供給する洗浄液導入変換フランジと、配管の切り換えを行なう複数のホットバルブとを新たに備えてなることを特徴とする気相成長装置の排気装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31
, C23C 16/44
, C30B 25/14
, H01L 21/205
