特許

J-GLOBAL ID：200903039553762781

ポジ型感光性組成物

発明者： 青合 利明 ,  滝田 敏 ,  上西 一也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-081075
公開番号（公開出願番号）：特開平10-274845
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 感度が高く、優れたレジストパターンが得られ、露光により発生する酸の拡散性が小さく、露光後加熱処理までの経時でレジストパターンの細りが生じたり、レジストパターン表面の形状がT型(T-top)を呈することがなく、光酸発生剤としてのスルホニウム化合物の溶剤溶解性を改良して、感度の向上を図れるポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する特定の構造の化合物(例えば下記の化合物)を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式(I)で表される化合物、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式中、R1 〜R3 は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又は-S-R4基を示す。R4 はアルキル基又はアリール基を示す。X- は、炭素数8個以上のアルキル基又はアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも1個有するか、炭素数4〜7個のアルキル基又はアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも2個有するか、もしくは炭素数1〜3個のアルキル基又はアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも3個有するベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、又はアントラセンスルホン酸のアニオンを示す。l、m及びnは、同じでも異なってもよく、1〜3の整数を示す。l、m及びnが各々2又は3の場合、2〜3個のR1 〜R3 のうちの各々の2個が互いに結合して、炭素環、複素環又は芳香環を含む5〜8個の元素から成る環を形成しても良い。

IPC (6件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C07C381/12 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C07C381/12 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R