特許

J-GLOBAL ID：200903039555697510

転写露光方法、転写露光装置及びそれに用いるレチクル

発明者： 中筋 護
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030922
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228353
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 ストライプ間繋ぎが目立たず、線幅精度のバラツキが少ない転写露光方法を提供する。【解決手段】 感応基板11上で隣り合うように転写されるレチクル上の2つのストライプ25、26を、レチクル5上では隣り合わない離れた場所に形成する。これによって、2つのストライプ25、26間にスペースを確保できる。ここにgray splicing 用の二重露光領域や、境界部のパターンを選択的に配置するマージン部を設けることができる。マージン部では、ストライプの境界を任意の場所に設定できる。

請求項（抜粋）：

感応基板上に転写すべきパターン(全体パターン)を複数のストライプに分割してレチクル上に形成し、レチクルと感応基板をそれぞれ走査しながら、各ストライプをエネルギ線で照明するとともに該ストライプを通過したエネルギ線を感応基板上に投影結像させ、感応基板上では各ストライプ(像)を繋ぎ合わせて上記全体パターンを転写する転写露光方法であって;感応基板上で隣り合うように転写されるストライプを、レチクル上では隣り合わない離れた場所に形成し、複数回の走査を行いながら各ストライプを転写露光することを特徴とする転写露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 518

Fターム (7件)：

5F046AA13 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01