特許
J-GLOBAL ID：200903039569055058
平面研磨機
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原田 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214464
公開番号（公開出願番号）：特開平6-015570
出願日： 1992年07月02日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【目的】 幅員がある被処理材の表面の艶消し処理、平滑面処理等を濃淡なく、また、均一に行なえるようにする。【構成】 躯体フレーム1の前後で被処理材Wを搬送する搬送装置10を配装する。躯体フレーム1には、被処理材Wの搬送方向にほぼ直交する全域に均一に分散流下した研磨材Sを強制的に叩き付ける打撃方式の投射装置20を配する。この投射装置20の後方に、被処理材W表面から研磨材S等を掻取り状に除去する除去装置60、研磨材S、塵埃等を吸い込み清掃する吸塵装置70を夫々設ける。また、除去、吸込み後の研磨材Sと塵埃その他とを選別分離し、再使用可能な研磨材Sを投射装置20に供給する循環分離装置90を設ける。
請求項（抜粋）：
前部に搬入口、後部に搬出口が夫々開口されている躯体フレームと、躯体フレーム内で搬入口から搬出口に至るまで被処理材を搬送する搬送装置と、搬入された被処理材に対して、その搬送方向にほぼ直交する全域に均一に分散させて研磨材を強制的に叩き付ける打撃方式の投射装置と、投射後の被処理材表面から研磨材等を掻取り状に除去し、吸い込む除去装置と、搬出口近傍の研磨材、その他の塵埃等を吸い込み清掃する吸塵装置と、吸い込まれた研磨材と塵埃その他とを分離した後、再使用可能な研磨材を投射装置に再度供給する循環分離装置とを備えたことを特徴とする平面研磨機。
IPC (3件)：
B24C 3/14
, B24C 5/06
, B24C 9/00
