特許
J-GLOBAL ID：200903039581583256
縦型半導体製造装置における主室のガス置換方法、及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内藤 哲寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-349720
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177054
出願日： 1992年12月01日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】縦型半導体製造装置の主室を不活性ガスにより大気遮断するに際して、主室内の不活性ガスと空気とを簡単に置換可能にして、高い大気遮断状態を維持可能にすると同時に、主室内の保守点検作業時においては、内部の不活性ガスを短時間に全て排出できるようにすることである。【構成】不活性ガス置換時には、不活性ガスを供給して残存酸素濃度が所定値に達した後に、不活性ガスの供給量を減じて少量の不活性ガスを連続補給しながら、該不活性ガスを送風機の作用により強制循環させつつ余剰の不活性ガスを排出させて、主室内の大気遮断状態を維持し、空気置換時には、不活性ガスの補給を停止させて、送風機の作用により大量の空気を主室内に流入させることにより、主室内の不活性ガスを排出させる。
請求項（抜粋）：
ウェハボート、該ウェハボートの昇降装置、ウェハ保管装置、ウェハ移載ロボットなどの各種装置類が収納されている縦型半導体製造装置の主室内の不活性ガスと空気とを相互に置換する方法であって、主室の一方の側板の内側部を流入部とし、該側板と相対向する他方の側板の内側部を流出部として、該流入部と該流出部との間に不活性ガス強制循環路を形成して、不活性ガス置換時には、不活性ガスを供給して残存酸素濃度が所定値に達した後に、不活性ガスの供給量を減じて少量の不活性ガスを連続補給しながら、該不活性ガスを送風機の作用により強制循環させつつ余剰の不活性ガスを排出させて、主室内の大気遮断状態を維持し、空気置換時には、不活性ガスの補給を停止させて、送風機の作用により大量の空気を主室内に流入させて、主室内の不活性ガスを排出させることを特徴とする縦型半導体製造装置における主室のガス置換方法。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C30B 25/14
, H01L 21/22
