特許
J-GLOBAL ID:200903039582928273

真空アーク放電による表面疵処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 茶野木 立夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-272897
公開番号(公開出願番号):特開平5-112815
出願日: 1991年10月21日
公開日(公表日): 1993年05月07日
要約:
【要約】【目的】 連続送給される被処理材の疵表面を検出して真空中でアーク放電し、歩留りの高い表面処理方法を提供する。【構成】 本発明は1〜10-3Torrの真空中に被処理材を連続送給し、被処理材の幅方向に多分割した複数電極を設け、かつ被処理材の長さ方向に多段列に設け、被処理材の表面疵を検出し、該疵位置の単位電極に演算等により選択された放電モードを入力して疵加工することを特徴とする真空アーク放電による表面疵処理方法である。
請求項(抜粋):
1〜10-3Torrの真空中に被処理材を連続送給し、被処理材の幅方向に多分割した複数電極を設け、かつ被処理材の長さ方向に多段列に設け、被処理材の表面疵を検出し、該疵位置の単位電極に演算等により選択された放電モードを入力して疵加工することを特徴とする真空アーク放電による表面疵処理方法。
IPC (2件):
C21D 1/82 ,  C23F 4/02

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