特許

J-GLOBAL ID：200903039589562681

ガス及び湿気バリアー膜及びその製造方法

発明者： 斎木 幸治 ,  木原 久美子
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 伊丹 健次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-312925
公開番号（公開出願番号）：特開平6-136161
出願日： 1992年10月27日
公開日（公表日）： 1994年05月17日
要約：

【要約】【構成】 高分子フィルムの片面又は両面にSiOx(ただし、1.0≦x≦1.8)層が形成されてなり、酸素透過率が2cm3/m2/day以下及び/又は水蒸気透過率が1g/m2/day以下であるガス及び湿気バリアー膜。【効果】 優れたガス及び湿気バリアー性を有するとともに、高い透明性を有する。

請求項（抜粋）：

高分子フィルムの片面又は両面にSiOx(ただし、1.0≦x≦1.8)層が形成されてなり、酸素透過率が2cm3/m2/day以下及び/又は水蒸気透過率が1g/m2/day以下であるガス及び湿気バリアー膜。