特許
J-GLOBAL ID:200903039592550082
高分子光導波路及びその製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西川 惠清
, 森 厚夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-086376
公開番号(公開出願番号):特開2004-294720
出願日: 2003年03月26日
公開日(公表日): 2004年10月21日
要約:
【課題】量産性に優れ、低コストであり、各種特性に優れた高分子光導波路を提供する。【解決手段】クラッド基板3に形成されたコア溝2にコア材料4を充填してコア5を形成することによって製造される高分子光導波路に関する。クラッド基板3を作製するためのクラッド材料1として、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いる。コア材料4として、1分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも1種類のものと下記一般式で表されるものとからなる材料を用いる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
クラッド基板に形成されたコア溝にコア材料を充填してコアを形成することによって製造される高分子光導波路において、クラッド基板を作製するためのクラッド材料として、芳香族を含む熱可塑性樹脂からなる材料を用いると共に、コア材料として、1分子内にラジカル重合可能な二重結合を有するメタクリレート系化合物及びアクリレート系化合物のうち少なくとも1種類のものと下記一般式[化1]で表されるものとからなる材料を用いることを特徴とする高分子光導波路。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (4件):
2H047PA02
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA41
前のページに戻る