特許
J-GLOBAL ID：200903039594728121
レーザ加工機のピアシング制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 毅巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-067982
公開番号（公開出願番号）：特開平5-185261
出願日： 1991年03月07日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】【目的】 ピアシングを行うにあたって、レーザビーム照射開始時の加工状態を良好に保つとともにピアシング時間の短縮を図る。【構成】 レーザビームの出力パラメータであるパルスのピーク値S、周波数Pおよびデューディ比Qは、レーザビームの照射開始時から時間taまでの間は、それぞれ最小値Ss、PsおよびQsに保たれる。そして時間taから時間tbまでの間は直線的に増加し、時間tbから時間tcまでの間はそれぞれ最大値Se、PeおよびQeを保つ。このように、レーザビームの出力を照射開始初期(時間0〜ta)で小さくすることにより、スパットが激しく飛び散るのが防止され、スムーズにピアシングの始動が行われる。そして、ある程度ピアシングが進みスパットが飛散しなくなってからは(時間ta以降)、出力を連続的に上げることにより、スムーズにかつ短時間でピアシングが行われる。
請求項（抜粋）：
レーザビームの出力をパルス制御してピアシングを行うレーザ加工機のピアシング制御方法において、前記レーザビームのパルスのピーク値、周波数およびデューディ比のうち少なくとも一つをパラメータとし、前記レーザビームの照射開始時から照射終了時までの時間を前記照射開始時から順に第1、第2および第3の所定時間に分割し、前記パラメータ値を前記第1の所定時間は最小値で継続し、前記第2の所定時間は前記最小値から最大値まで連続的に増大し、前記第3の所定時間は前記最大値で継続することを特徴とするレーザ加工機のピアシング制御方法。
IPC (2件)：
B23K 26/00 330
, B23K 26/00
