特許

J-GLOBAL ID：200903039598919266

溶存酸素の除去方法

発明者： 鶴丸 陽佳 ,  河内 透
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-119366
公開番号（公開出願番号）：特開平8-290007
出願日： 1995年04月20日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【構成】溶存酸素含有水に窒素ガスを接触させて溶存酸素を除去し、除去した酸素が混入した使用済みの窒素ガスに水素源を供給し、貴金属触媒層を通して酸素と水素の反応により酸素を水に変換して除去し、窒素ガスを循環再使用する水中の溶存酸素の除去方法において、水素の供給量が混入している酸素との反応当量の1〜3倍であり、触媒層の温度が60〜100°Cであり、窒素ガスの触媒層空間速度が1,000〜10,000hr-1であり、触媒層出口の窒素ガス中の酸素濃度が30ppm(容量比)以下であり、使用する窒素ガス量の被処理水量に対する比が1.5〜10倍(Nm3/m3)であることを特徴とする溶存酸素の除去方法。【効果】本発明方法によれば、高純度窒素ガスを循環再使用することにより溶存酸素含有水の窒素脱気を行い、小型の装置により、従来法では達成することができなかった溶存酸素濃度5ppb(重量比)以下の処理水を容易に得ることができる。

請求項（抜粋）：

溶存酸素含有水に窒素ガスを接触させて溶存酸素を除去し、除去した酸素が混入した使用済みの窒素ガスに水素源を供給し、貴金属触媒層を通して酸素と水素の反応により酸素を水に変換して除去し、窒素ガスを循環再使用する水中の溶存酸素の除去方法において、水素の供給量が混入している酸素との反応当量の1〜3倍であり、触媒層の温度が60〜100°Cであり、窒素ガスの触媒層空間速度が1,000〜10,000hr-1であり、触媒層出口の窒素ガス中の酸素濃度が30ppm(容量比)以下であり、使用する窒素ガス量の被処理水量に対する比が1.5〜10倍(Nm3/m3)であることを特徴とする溶存酸素の除去方法。

IPC (3件)：

B01D 19/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/58

FI (3件)：

B01D 19/00 F ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/58 T