特許

J-GLOBAL ID：200903039602118966

投影露光装置

発明者： 蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-359287
公開番号（公開出願番号）：特開平11-191525
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【課題】波長300nm以下の露光光を使用する投影露光装置における照明光学系の透過率の変動を抑制する。【解決手段】ArFエキシマレーザをレチクル16に照射して、レチクル16上のパターンを投影光学系23を介してウェハW上に転写する。照明光路である筐体COに窒素ガスを循環させるとともに、照明光学素子をヒータ61で加熱する。照明光学素子が加熱されると、その表面の汚染物質が剥離する。剥離した汚染物質を窒素ガスとともに筐体COの外部に排出する。ヒータ61の熱で鏡筒LBが加熱されないように冷却水を冷却管路62,66に流して筺体COと支持構造体CSを冷却する。

請求項（抜粋）：

筐体に収容され、照明光源からの照明光を原版に照射する照明光学系と、鏡筒に収容され、前記原版上のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系とを備える投影露光装置において、前記筐体内の照明光学素子を加熱する加熱装置と、前記筐体と前記鏡筒とを連結する支持構造体に配設され、前記筐体から前記鏡筒への伝熱を抑制する冷却装置とを備えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 516 F