ブラックマトリックス基板およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-168818
公開番号（公開出願番号）：特開平5-303090
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：

【要約】【目的】液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く遮光性に優れ反射率の低いブラックマトリックス基板、および、そのようなブラックマトリックス基板を低コストで製造することのできる製造方法を提供する。【構成】透明基板上にブラックマトリックス用パターンを有する親水性樹脂を含有したレリーフを形成し、このレリーフを無電解メッキ液に接触させレリーフ内に略均一に金属粒子を析出させることによりブラックマトリックス用パターンを有する遮光層を形成してブラックマトリックス基板とする。

請求項（抜粋）：