半導体製造工場の廃液処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：春日讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-361386
公開番号（公開出願番号）：特開2000-176457
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】フッ素の回収効率を向上した半導体製造工場の廃液処理装置を提供することにある。【解決手段】半導体製造系3の廃液は、紫外線発生器5によって紫外線を照射して、TMAを分解し、次に、ルテニウム触媒が充填された触媒塔8によって、過酸化水素を分解し、さらに、イオン交換樹脂が充填された電気透析装置10によって弗化水素及び金属を回収する。

請求項（抜粋）：

半導体製造工場において半導体製造時に発生する廃液の処理を行う半導体製造工場の廃液処理装置において、上記廃液を電気透析して、廃液中のフッ素を弗化水素として回収する電気透析手段を備え、上記電気透析装置の廃液室内に、イオン交換樹脂を充填したことを特徴とする半導体製造工場の廃液装置。

IPC (4件)：

C02F 1/469 , C02F 1/32 , C02F 1/42 , C02F 1/70

FI (4件)：

C02F 1/46 103 , C02F 1/32 , C02F 1/42 E , C02F 1/70 Z

Fターム (43件)：

4D025AB06 , 4D025AB17 , 4D025AB22 , 4D025AB23 , 4D025BA08 , 4D025BA13 , 4D025BA22 , 4D025BA27 , 4D025BB02 , 4D025BB04 , 4D025DA05 , 4D025DA06 , 4D037AA14 , 4D037AB12 , 4D037BA18 , 4D037CA03 , 4D037CA04 , 4D037CA15 , 4D050AA13 , 4D050AB33 , 4D050BC06 , 4D050BC09 , 4D050BD06 , 4D050CA06 , 4D050CA08 , 4D050CA09 , 4D050CA10 , 4D061DA08 , 4D061DB18 , 4D061DB19 , 4D061DC09 , 4D061DC13 , 4D061DC18 , 4D061DC22 , 4D061DC23 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB04 , 4D061EB18 , 4D061EB22 , 4D061ED17 , 4D061FA06 , 4D061FA20

引用特許：

審査官引用 (6件)

シリコンウエハ洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-307466 出願人：オルガノ株式会社
特開昭53-128584
水性流体中の酸化物質を分解させる方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-187259 出願人：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト

全件表示

前のページに戻る