揮発性有機塩素化合物分解処理方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-325098
公開番号（公開出願番号）：特開2006-130216
出願日： 2004年11月09日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】低濃度で大量の揮発性有機塩素化合物を処理する場合においても、塩素の存在下に光を照射する分解方法によって効率的に処理を行う。【解決手段】揮発性有機塩素化合物に対して吸着及び脱着可能な吸着剤を充填した吸着器に低濃度の揮発性有機塩素化合物を含有する大量の媒体を流通させることによって媒体中の揮発性有機塩素化合物を吸着器に回収し、次いで水蒸気を含有する気体を吸着器内の吸着剤に接触させることによって吸着器からVOCを脱着・排出し、その脱着気体を冷却することによって揮発性有機塩素化合物と水を凝縮し、さらに凝縮液から再び気化させた少量かつ高濃度の揮発性有機塩素化合物を塩素の存在下に光を照射することで分解処理を行い、後段で分解副生成物を分解処理を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

媒体中に含有される揮発性有機塩素化合物を塩素の存在下に光を照射することによって分解する揮発性有機塩素化合物の処理方法であって、揮発性有機塩素化合物を吸着する吸着剤を充填した吸着器に揮発性有機塩素化合物を含有する媒体を流通させることによって媒体中の揮発性有機塩素化合物を吸着器に回収する回収工程と、少なくとも水蒸気を含有する気体を吸着器内の吸着剤に接触させることによって、揮発性有機塩素化合物を回収した吸着器から揮発性有機塩素化合物を脱着させる脱着工程と、前記脱着工程によって生成する揮発性有機塩素化合物と水蒸気を含有する気体を吸着器から排出し、次いで該気体を冷却することによって揮発性有機塩素化合物と水を含有する凝縮液を得る凝縮工程と、前記凝縮液から揮発性有機塩素化合物を気化させる気化工程と、前記工程によって発生した揮発性有機塩素化合物を含有する気体を塩素ガスと混合し、該混合気体に光を照射することによって該混合気体中の揮発性有機塩素化合物を分解する分解工程と、前記揮発性有機塩素化合物分解工程において発生した揮発性有機塩素化合物の分解生成物を分解処理する分解生成物処理工程、を少なくとも有することを特徴とする揮発性有機塩素化合物処理方法。

IPC (10件)：

A62D 3/00 , B01D 19/00 , B01D 53/04 , B01J 19/12 , B60P 3/00 , C02F 1/20 , C02F 1/28 , C09K 3/00 , B01D 53/70 , B09C 1/00

FI (12件)：

A62D3/00 143 , A62D3/00 330 , A62D3/00 651 , B01D19/00 F , B01D53/04 G , B01J19/12 C , B60P3/00 Q , C02F1/20 A , C02F1/28 A , C09K3/00 S , B01D53/34 134E , B09B5/00 S

Fターム (52件)：

2E191BA12 , 2E191BB01 , 2E191BC01 , 2E191BD17 , 4D002AA21 , 4D002BA04 , 4D002BA06 , 4D002BA09 , 4D002BA13 , 4D002DA02 , 4D002DA35 , 4D002DA41 , 4D002DA45 , 4D002DA46 , 4D002DA53 , 4D002EA05 , 4D004AA41 , 4D004AB06 , 4D004CA12 , 4D004CA50 , 4D011AA15 , 4D011AD03 , 4D012CA10 , 4D012CA12 , 4D012CB12 , 4D012CB16 , 4D012CD02 , 4D012CH06 , 4D024AA01 , 4D024AB11 , 4D024BA02 , 4D024BA07 , 4D024CA01 , 4D024DA06 , 4D024DA08 , 4D024DB10 , 4D024DB18 , 4D024DB30 , 4D037AA01 , 4D037AB14 , 4D037BA23 , 4D037BB05 , 4D037CA01 , 4G075AA37 , 4G075BA01 , 4G075BA05 , 4G075BB04 , 4G075BD12 , 4G075CA20 , 4G075CA33 , 4G075CA57 , 4G075EC21

引用特許：

出願人引用 (2件)

気体状ハロゲン化脂肪族炭化水素化合物の分解方法および分解装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-334136 出願人：キヤノン株式会社
ガス処理装置及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-181831 出願人：キヤノン株式会社

前のページに戻る