特許

J-GLOBAL ID：200903039631729150

半導体露光装置

発明者： 笠井 維志
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356963
公開番号（公開出願番号）：特開2003-158060
出願日： 2001年11月22日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 露光装置に搬入されたレチクルが、露光処理で使用する指定されたレチクルであるか照合する為に読みとられるレチクルおよびレチクルカセットバーコードに、ハードウェアに依存するような制御コードやユーザ固有の情報が含まれていても、処理プログラムに個別対応を行なう事なく、正しくプログラムを動作させる。【解決手段】 半導体露光装置において、制御コードやユーザ固有情報といったバーコード情報内の不要な情報部分を記述したマスク情報と、そのマスク情報を参照して、不必要なバーコード情報部分を破棄する手段を備えている事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

露光処理に使用するレチクルの照合に、レチクルやレチクルカセットに印刷されたバーコードを使用する半導体露光装置において、レチクルもしくはレチクルカセットバーコードを読み込んだ際、露光装置における前記バーコード内容表示やレチクル照合に不必要なバーコード情報にマスクするための情報をもち、そのマスク情報に基づいてマスクを掛ける手段を備えたことを特徴とする半導体露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 1/08 R ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 F

Fターム (8件)：

2H095BE04 ,  5F046AA16 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA06 ,  5F046DD03 ,  5F046DD04 ,  5F046DD06