特許
J-GLOBAL ID：200903039635146825
高周波加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-265244
公開番号（公開出願番号）：特開平8-128645
出願日： 1994年10月28日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：
【要約】【目的】 水垢の除去等特別のメンテナンスが不要の簡単且つ、使い勝手良く、あらゆる被加熱物に対し、水蒸気を印加しながら高周波加熱が行える装置を得ること、更に、装置の均一加熱性能の向上を目的とする。【構成】 加熱室略中央部に加熱室2内への水蒸気の放出に掛かる矩形の蒸気開口10を有する水蒸気の発生に掛かる誘電体製の蒸気容器8を設け、この蒸気容器8の底部には蒸気開口10のフランジ12よりも大きく、くり抜いた開口15を持つ誘電体の繊維からなる水の吸水体16を配置している。更に、加熱装置本体は加熱室2外にマグネトロン17からなる高周波発生手段と加熱室内に電波の照射を可能にする構成を設け、被加熱物に対し、水蒸気を印加しながら高周波加熱を行う構成とした。
請求項（抜粋）：
加熱室と、前記加熱室へ電波を照射するように結合された高周波発生手段を備え、前記加熱室内には、前記高周波発生手段と被加熱物との間に誘電体材料によって形成した蒸気容器を着脱自在に収納し、前記蒸気容器内には水を吸収する吸水体を設け、前記吸水体には水蒸気を発生するための水を吸収させて設け、更に、前記吸水体は被加熱物に直接対向させないように隔離して設けると共に、前記蒸気容器の被加熱物への対向面に設けた開口部から水蒸気を庫内に放出する構成とし、高周波及び水蒸気によって加熱調理を行う構成の高周波加熱装置。
IPC (4件)：
F24C 7/02
, F24C 7/02 511
, A47J 36/00
, H05B 6/64
