特許
J-GLOBAL ID：200903039640713991
薄膜形成基材の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-109901
公開番号（公開出願番号）：特開平6-093460
出願日： 1991年04月15日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：
【要約】【目的】 8属金属の酢酸塩を減圧下に熱分解し薄膜形成基材を得る。【構成】 基材と8属金属の酢酸塩とを共存させ、減圧下で該8属金属の酢酸塩を熱分解することを特徴とする薄膜形成基材の製造法
請求項（抜粋）：
基材と8属金属の酢酸塩とを共存させ、減圧下で該金属の酢酸塩を熱分解することを特徴とする薄膜形成基材の製造法
IPC (4件)：
C23C 20/04
, B01J 19/12
, H01F 10/26
, C01G 49/02
