スチレン系重合体の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059098
公開番号（公開出願番号）：特開平8-325313
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】広分子量分布化したスチレン系重合体の簡便な製造方法を提供する。【構成】スチレン系単量体を懸濁重合、回分式塊状重合または押し出し流れ型の連続式重合装置で塊状重合を行って、スチレン系重合体を製造する方法において、ジチオカルバメート基を有する化合物、アリール基を有するスルフィド化合物、アリールアルキル基を有するスルフィド化合物及びチアゾール基を有するスルフィド化合物の中から選ばれる少なくとも一種類の化合物を該単量体に対して50〜5000重量ppm添加して、重合温度が110°C〜180°Cの範囲で、最終転化率が40重量%以上になるまで重合することを特徴とする広分子量分布化したスチレン系重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

ラジカル開始剤の非存在下にスチレン系単量体またはスチレン系単量体とこれと共重合可能な単量体を懸濁重合、回分式塊状重合または押し出し流れ型の連続式重合装置で塊状重合を行ってスチレン系重合体を製造する方法において、ジチオカルバメート基を有する化合物、アリール基を有するスルフィド化合物、アリールアルキル基を有するスルフィド化合物及びチアゾール基を有するスルフィド化合物の中から選ばれる少なくとも一種類の化合物を該単量体に対して50〜5000重量ppm添加して、重合温度が110°C〜180°Cの範囲で、最終転化率が40重量%以上になるまで重合することを特徴とする広分子量分布化したスチレン系重合体の製造方法。

IPC (4件)：

C08F 2/38 MCN , C08F 2/02 MAP , C08F 2/18 MBE , C08F 12/06 MJT

FI (4件)：

C08F 2/38 MCN , C08F 2/02 MAP , C08F 2/18 MBE , C08F 12/06 MJT

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭53-140395
特開昭50-124982

審査官引用 (2件)

特開昭53-140395
特開昭50-124982

前のページに戻る