プラズマ評価方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：外川英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-286344
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121440
出願日： 1997年10月20日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】本発明は、サンプルによるプラズマ処理性能の評価ではなく、直接的にプラズマ処理性能の評価を行うことで、時間的にもコスト的にも有効なプラズマ処理装置のプラズマ評価方法及びその装置を提供することを目的とする。【解決手段】反応チャンバ内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生回路回路中の電気的物理量を検出する工程と、検出した電気的物理量と予め設定した値と比較しプラズマの発生状況を評価する評価工程とを有する。

請求項（抜粋）：

反応チャンバ内にプラズマを発生させるための回路中の電気的物理量を検出する工程と、検出した電気的物理量と予め設定した値とを比較しプラズマの発生状況を評価する評価工程とを有することを特徴とするプラズマ評価方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/00

FI (3件)：

H01L 21/302 B , C23F 4/00 A , H05H 1/00 A

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