特許
J-GLOBAL ID:200903039651837994
複数の温度感知要素を使用して組織のアブレーションを制御するためのシステム及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-503099
公開番号(公開出願番号):特表平10-505252
出願日: 1994年10月14日
公開日(公表日): 1998年05月26日
要約:
【要約】アブレーション・エネルギーの複数のエミッタを使用して生体組織のアブレーションを行なうシステム及びそれに関連する方法。当該システム及び方法は、電力パルスの順番でアブレーション・エネルギーを各エミッタに個別に送る。当該システム及び方法は、各エミッタ地点の温度を定期的に感知し、感知した温度を全てのエミッタに対して確立されている望ましい温度と比較し、比較結果に基づいて各エミッタに対して個別に信号を生成する。当該システム及び方法は、各エミッタに対する信号に基づいてエミッタへの電力パルスを個別に変化させ、組織のアブレーション中に全てのエミッタにおける温度を本質的に望ましい温度に維持する。
請求項(抜粋):
アブレーション・エネルギーの複数のエミッタを使用して生体組織のアブレーションを行うシステムにおいて、 各エネルギー・エミッタ地点の温度を計測するための、エミッタにある少なくとも1つの温度感知要素と、 アブレーション・エネルギー源を各エネルギー・エミッタに結合してアブレーション・エネルギーを電力パルスの順番で個別に各エミッタに送る電力コントローラであり、各電力パルスがデューティーサイクル及び振幅を持ち、組織のアブレーションを行なうために各エミッタに送られる電力が下記で表される電力コントローラと、 POWER = AMFLITUDE2×DUTYCYCLE 各温度感知器が計測した温度を定期的に読み取り、読み取った温度を全てのエミッタに対して確立された所望の温度と比較し、比較結果に基づいて各エミッタに対して個別に信号を生成する処理要素と、 各エミッタ用の信号に基づいて個別にエミッタへの電力パルスを変化させるための電力コントローラに結合し、全てのエミッタにおける温度が組織のアブレーション中本質的に所望の温度に保たれるようにするための温度コントローラ から成ることを特徴とするシステム。
IPC (2件):
A61B 17/39
, A61B 5/00 101
FI (2件):
A61B 17/39
, A61B 5/00 101 J
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