特許
J-GLOBAL ID：200903039655986528
光学材料の成分濃度分布測定方法および光透過率分布測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-083508
公開番号（公開出願番号）：特開平10-281992
出願日： 1997年04月02日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 光学材料の成分濃度分布測定を高効率且つ高精度で行う。【解決手段】 まず、光学部材用インゴット1から濃度分布を測定したい方向に連続した、長尺状の試験片2を切り出し、その試験片2の厚さD方向の向かい合う2面2a,2bを光学研磨する。この試験片2の一方の研磨面2aを測定光5に対して垂直になるように配置したのち、この試験片1を試験片の長さLの方向に走査する。このとき、測定光5の波長は、インゴット1において測定しようとする成分の固有吸収帯波長域に合わせておく。これにより、従来の測定方法に比較して効率的に、かつ高精度で、連続した成分濃度分布を得ることができる。
請求項（抜粋）：
光学材料から、光学研磨された平行な二面を持つ試験片を切り出し、前記光学材料中の特定成分に起因する吸収波長を有する測定光を、前記試験片の前記二面の一方の面に垂直に照射し、前記二面の他方の面から出射する前記測定光を検出して得られた光透過率から前記特定成分の濃度を測定する方法において、前記測定光を前記一方の面に垂直に照射したまま、前記一方の面状を走査するように前記測定光及び/または前記試験片を移動させる工程を有することを特徴とする光学材料中の特定成分の濃度分布測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/59 Z
, G01M 11/00 T
