特許
J-GLOBAL ID：200903039660660681
露光用マスク、露光方法、露光用マスクの製造方法、3次元デバイスおよび3次元デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-013281
公開番号（公開出願番号）：特開2007-193243
出願日： 2006年01月23日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】グレートーンパターンを用いて3次元構造物を形成するにあたり、継ぎ目の露光量誤差を低減させたステッチ露光により大面積の光学デバイスを作成すること。【解決手段】本発明は、露光装置で用いられる露光用マスクMにおいて、露光装置から出射される照明光を遮断する遮光パターンと、照明光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で遮光パターンと透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられて成る単位パターンtと、この単位パターンtがマトリクス状に配置されて成るアレイパターンsとを備えており、アレイパターンsの最外周となる単位パターンについて複数回露光した際の合計の露光量が、最外周とならない単位パターンについて1回露光した際の露光量とほぼ等しくなるよう設定されているものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置で用いられる露光用マスクにおいて、
前記露光装置から出射される照明光を遮断する遮光パターンと、前記照明光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で前記遮光パターンと前記透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられて成る単位パターンと、
前記単位パターンがマトリクス状に配置されて成るアレイパターンとを備えており、
前記アレイパターンの最外周となる前記単位パターンについて複数回露光した際の合計の光透過量が、最外周とならない前記単位パターンについて1回露光した際の光透過量とほぼ等しくなるよう設定されている
ことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 D
, G03F7/20 501
2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
, 2H097AA06
, 2H097AA11
, 2H097BB01
, 2H097LA17
