特許
J-GLOBAL ID:200903039665760560
炭酸ガスレーザーによる孔あけ方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小林 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-048537
公開番号(公開出願番号):特開2001-239386
出願日: 2000年02月25日
公開日(公表日): 2001年09月04日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 銅張板の上に直接炭酸ガスレーザーを照射して小径の貫通孔及び/又はブラインドビア孔を形成する方法の提供。【解決手段】 銅張板の銅箔表面にニッケルを含有するメッキ0を施し、この銅張板の上から、好適には、10〜60mJより選ばれた高出力の炭酸ガスレーザーを直接照射して外層及び内層銅箔を孔あけ加工して貫通孔C及び/又はブラインドビア孔eを形成する方法。
請求項(抜粋):
銅張板の銅箔表面にニッケルを含有するメッキを施した後、この上から、銅箔を孔あけ加工するに十分なエネルギーの炭酸ガスレーザーを、パルス発振にて直接照射して貫通孔及び/又はブラインドビア孔を形成することを特徴とする炭酸ガスレーザーによる孔あけ方法。
IPC (5件):
B23K 26/00 330
, H05K 3/00
, H05K 3/46
, B23K101:42
, B23K103:16
FI (5件):
B23K 26/00 330
, H05K 3/00 N
, H05K 3/46 N
, B23K101:42
, B23K103:16
Fターム (21件):
4E068AF01
, 4E068AF02
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068DA11
, 5E346CC04
, 5E346CC05
, 5E346CC08
, 5E346CC09
, 5E346CC10
, 5E346CC32
, 5E346CC37
, 5E346CC38
, 5E346DD12
, 5E346DD23
, 5E346DD24
, 5E346EE09
, 5E346FF01
, 5E346GG15
, 5E346GG16
, 5E346GG22
前のページに戻る