特許

J-GLOBAL ID：200903039679659200

ウエハ上異物検出方法および異物検出装置

発明者： 久保田 正文 ,  西尾 幹夫
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-154430
公開番号（公開出願番号）：特開平5-003238
出願日： 1991年06月26日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ表面上の0.05μm程度の超微粒子異物の検出法を提供するものである。【構成】 異物を核として凝縮反応を生じさせるため被測定ウエハを過飽和蒸気圧に曝すことのできる凝縮室を備えた異物検出装置を用いてウエハ上の異物を検出する。【効果】 凝縮室中で被測定ウエハをアルコール等の過飽和蒸気圧状態に曝し、ウエハ表面の異物を核として凝縮反応を生じさせ、拡大された凝縮核数を測定する。凝縮反応によって、0.05μm径の異物は0.5μmあるいはそれ以上の径に拡大されるため、容易に計数できる。これによりLSI製造工程の異物管理、歩留り改善に極めて有益なデータを得ることができる。

請求項（抜粋）：

ウエハ表面の異物を核として凝縮反応を生じさせた後、前記ウエハ上の異物数を計数することを特徴とするウエハ上異物検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/88 ,  H01S 3/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-266445
  
• 特開平2-192750
  
• 特開平1-251733