特許
J-GLOBAL ID：200903039695868129
蒸着装置および蒸着方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-191341
公開番号（公開出願番号）：特開2003-003253
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】【課題】 基板ホルダーと基板ホルダーに接触するレンズを含む基板の部分との間の温度差を極力抑えて基板全体の均一加熱が実現でき、レンズ性能を向上させ、かつ生産性の高い連続自動蒸着装置を安価に提供する。【解決手段】 蒸着装置は基板であるレンズ9が収納されて大気圧中でそれぞれが独立して室内の雰囲気および温度が制御可能な複数個の加熱・徐冷室2と、加熱・徐冷室2とも接続が可能で、移載された加熱されているレンズ9の熱の逃げを防止しながら大気圧と所望の真空度との間での排気と復圧とが可能な保温室16と、真空中で蒸着によりレンズ9に膜を成膜する成膜室31と、温度制御された基板搬送ロボット25を有し、その基板搬送ロボット25が真空中にてレンズ9を保温室16と成膜室31との間で搬送可能な移載室24とを備える。
請求項（抜粋）：
基板に真空中で膜を成膜するための蒸着装置であって、前記基板が収納されて、大気圧中でそれぞれが独立して室内の雰囲気および温度が制御可能な複数個の加熱・徐冷室と、前記加熱・徐冷室とも接続が可能で、移載された加熱されている前記基板の熱の逃げを防止しながら大気圧と所望の真空度との間での排気と復圧とが可能な保温室と、真空中で蒸着により前記基板に膜を成膜する成膜室と、温度制御された基板搬送機構を有し、該基板搬送機構が真空中にて前記基板を接続された前記保温室と前記成膜室との間で搬送可能な移載室と、を備えたことを特徴とする蒸着装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 L
, G02B 1/10 A
2K009AA02
, 2K009BB04
, 2K009DD03
, 4K029AA04
, 4K029BB04
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DA00
, 4K029DA08
, 4K029KA01
