特許
J-GLOBAL ID：200903039701222392
ガスナイフジェットを備えるはんだノズル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-519404
公開番号（公開出願番号）：特表平8-507254
出願日： 1993年03月11日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】滑らかな、乱流のないはんだ波を生み出すためのはんだノズルは、回路基板および他の素子の下表面に形成し得るはんだつららおよびブリッジを取除くために少なくとも1つのエアージェットを伴う。回路基板は移動方向に上向きに傾斜した経路において移動し、はんだ波を通過した後エアーナイフが過剰なはんだを取除くに十分な力で脱酸化ガスを噴出する。はんだ付けは、不活性ガス、または還元ガスなどの脱酸化ガスエンクロージャにおいて行なわれ、はんだ波を超音波周波数下で振動させるとはんだ付けを助けることができる。
請求項（抜粋）：
素子を波はんだ付けするための方法であって、 ノズルの2つの壁の間に上向きに流れるはんだ波を形成するステップを含み、壁は滑らかな、乱流のないはんだ波を与えるに十分な距離の間隔をあけられており、ノズルははんだリザーバの上方を延び、さらに、 はんだ波が素子の下表面と接触するようにはんだ波を介して予め定められた経路で素子を移動させるステップと、 はんだ波から退出した後に、それが素子の下表面からはんだブリッジおよびつららを取除くに十分な流速で素子の下表面に当たるように脱酸化ガスの少なくとも1つのガスナイフジェットを噴出し、はんだ波の少なくとも一部分をつまりナイフジェットに流れ込みはんだリザーバにおけるはんだの表面より下に退出するはんだ波の少なくとも一部分を、脱酸化ガスで覆うステップとを含む、素子を波はんだ付けする方法。
IPC (3件)：
B23K 1/08 320
, B23K 3/06
, B23K 31/02 310
