特許

J-GLOBAL ID：200903039705131855

狭分散性のポリ{1-(1-アルコキシエトキシ)-4-(1-メチルエテニル)ベンゼン}およびその製造方法

発明者： 山本 喜博 ,  高尾 俊郎 ,  福田 立子 ,  原 烈
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-031440
公開番号（公開出願番号）：特開平10-306121
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】 化学増幅型ポジ型レジスト材として有用な狭分散性のポリ{1-(1-アルコキシエトキシ)-4-(1-メチルエテニル)ベンゼン)、および、工業的に入手容易な4-(1-メチルエテニル)フェノールを原料とする狭分散性のポリ{1-(1-アルコキシエトキシ)-4-(1-メチルエテニル)ベンゼン}の簡便かつ効率的な製造方法を提供する。【解決手段】 4-(1-メチルエテニル)フェノールとアルキルビニルエーテル類とを酸の存在下に反応させて得られた1-(1-アルコキシエトキシ)-4-(1-メチルエテニル)ベンゼンを、有機アルカリ金属化合物を重合開始剤としてアニオン重合させてポリ{1-(1-アルコキシエトキシ)-4-(1-メチルエテニル)ベンゼン)を製造する。

請求項（抜粋）：

重量平均分子量が2000ないし100000であり、かつ重量平均分子量と数平均分子量との比が1.6以下である狭分散性のポリ{1-(1-アルコキシエトキシ)-4-(1-メチルエテニル)ベンゼン}。

IPC (3件)：

C08F 12/22 ,  C08F 4/46 ,  G03F 7/039 601

FI (3件)：

C08F 12/22 ,  C08F 4/46 ,  G03F 7/039 601