特許

J-GLOBAL ID：200903039709775145

露光方法及びモニタパターン

発明者： 橋本 武夫
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-304792
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148222
出願日： 1995年11月22日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】 ステッパ等の露光装置では、露光量とマスク重ね合わせの適否を判定するためにそれぞれ専用のモニタパターンを設けているため、モニタパターンの数が増大して露光フィールドの実効面積が低減され、かつ判定のために時間がかかる。【解決手段】 線幅が等しくかつ等ピッチで配列された複数の矩形パターン5a〜5eからなる第1のモニタパターン4Aと、第1のモニタパターンと等ピッチで配列されかつ線幅が段階的に変化される複数の矩形パターン6a〜6eからなる第2のモニタパターン4Bとを利用し、これら第1及び第2のモニタパターン4A,4Bを対比させて各矩形パターンにおける幅寸法の比較とずれ位置を確認することで、露光量と重ね合わせの適否を迅速に判定することができる。また、モニタパターンの数を低減して露光の有効面積が拡大できる。

請求項（抜粋）：

マスク上に形成された回路パターンを投影露光装置により半導体基板上に繰り返し露光を行う露光方法において、露光された一方のパターンには線幅が等しくかつ等ピッチで配列された複数の第1のモニタパターンを露光し、これに隣接する他方のパターンには前記第1のモニタパターンと等ピッチで配列されかつ線幅が段階的に変化される複数の第2のモニタパターンを第1のモニタパターンに接するように露光し、前記第1のモニタパターンと第2のモニタパターンとのピッチ方向の位置ずれと、複数のモニタパターンのうちの線幅が一致されるモニタパターンとを確認することで、露光量と重ね合わせを判定することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (8件)：

H01L 21/30 502 M ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 W ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 525 C ,  H01L 21/30 527