特許
J-GLOBAL ID：200903039722718959
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梁瀬 右司
, 振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-052069
公開番号（公開出願番号）：特開2005-243940
出願日： 2004年02月26日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】 回転する基板の下面に処理液を供給して該下面に対して洗浄処理などの所定の処理を施す基板処理装置において、該処理後の残留液滴による悪影響を効果的に防止する。【解決手段】 リンス処理直後に、ウエハWの下面中央部とノズル29の先端部(ノズル開口部30bおよび遮断部材30の上面30aの全面)との間に液溜りPを形成することで、ウエハWの下面中央部およびノズル29の先端部に残留付着している液滴Lを液溜りPに取り込んでいる。さらに、該液溜りPを吸引除去ことによって液溜りPとともにウエハWの下面中央部およびノズル先端部から残留液滴Lを除去している。ここで、ノズル開口部30bの開口寸法はノズル先端に向かうにしたがって大きくなっているので、安定して液溜りPが形成されるとともに吸引除去される。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
基板を回転させながら前記基板の下面中央部に向けて第1処理液を吐出することで、前記基板の下面全体に前記第1処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
その先端部に前記基板の下面に向けて開口された開口部が設けられるとともに、前記先端部を前記基板と離間させながら配置されたノズルと、
第2処理液を前記ノズルに供給することで前記処理を受けた基板の下面に向けて前記ノズル開口部より前記第2処理液を吐出させて前記基板の下面中央部と、前記ノズル先端部との間に液溜りを形成する供給手段と、
前記液溜りを前記ノズル開口部より吸引して前記基板の下面中央部と前記ノズル先端部との間から前記液溜りを除去する吸引手段と
を備え、
前記ノズル開口部の開口寸法が前記ノズルの先端に向かうにしたがって大きくなるように前記ノズル開口部が前記ノズル先端部に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/304 643A
, H01L21/304 643C
, H01L21/304 648L
, B08B3/04 A
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB33
, 3B201BB24
, 3B201BB92
, 3B201BB93
