特許

J-GLOBAL ID：200903039735422790

パターニング装置

発明者： クリストフ・シラ ,  碓井 節夫 ,  鮫島 俊之 ,  原 昌輝 ,  佐野 直樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-158597
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326369
出願日： 1992年05月26日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 基板の変形の有無にかかわりなく、大面積の基板上にパターンを高い位置精度で形成することができ、しかも低コストで構成することができるパターニング装置を実現する。【構成】 パターニングを行うべき基板5上にアラインメント用トラック及び露光タイミング検出用トラックを形成し、光ピックアップ11、12によりアラインメント用トラックを追尾することにより光学ヘッド1をアラインメント用トラックに沿って移動させ、光ピックアップ13により露光タイミング検出用トラックを追尾することにより露光タイミングを検出して基板5に対してマスク8のマスクパターンを投影露光する。

請求項（抜粋）：

少なくとも一つの光ピックアップ手段と、上記光ピックアップ手段と連動するようにマスクが装着される露光光学系とを有し、パターニングを行うべき基板上に形成された所定のトラックを上記光ピックアップ手段により追尾しながら上記基板に対して上記マスクを相対的に移動し、上記マスクが上記基板の所定位置に来たときに上記マスクを用いて上記基板を露光するようにしたパターニング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-218091
  
• 特開平3-296603
  
• 特開昭63-181319
  
• 特開平4-010612