特許
J-GLOBAL ID：200903039737644277
加速度センサ及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-262182
公開番号（公開出願番号）：特開平8-122361
出願日： 1994年10月26日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】 加速度センサの感度及び歩留りの向上を図る。を提供する【構成】 シリコンで構成され、中央部に空洞部11aを備えた基板11の空洞部11aの表面側の開口11bに梁12が形成され、その梁12の裏面側に、シリコンで構成された第1おもり部13が形成され、その第1おもり部13に、シリコンで構成された第2おもり部15が固着されている。【効果】 チップサイズを増大させずにおもり部分の質量を大きくできる。
請求項（抜粋）：
シリコンで構成され、空洞部を備えた基板の前記空洞部の表面側の開口に梁が形成され、その梁の裏面側に、シリコンで構成された第1おもり部が形成され、その第1おもり部に、シリコンで構成された第2おもり部が固着されていることを特徴とする加速度センサ。
IPC (2件)：
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