特許
J-GLOBAL ID:200903039744679582

pn接合型有機ダイオードとその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-086331
公開番号(公開出願番号):特開2002-289877
出願日: 2001年03月23日
公開日(公表日): 2002年10月04日
要約:
【要約】【課題】 従来のシリコン系pn接合型ダイオードと同等のダイオード性能を持つpn接合型有機ダイオードを提供する。【解決手段】 p型層およびn型層を備えるpn接合型ダイオードであって、p型層がポリチオフェン系高分子膜等の有機材料からなり、n型層が電解析出された酸化チタン薄膜からなる。
請求項(抜粋):
p型層およびn型層を備えるpn接合型ダイオードであって、p型層が有機材料からなり、n型層が酸化チタン薄膜からなることを特徴とするpn接合型有機ダイオード。
IPC (2件):
H01L 29/861 ,  H01L 51/00
FI (2件):
H01L 29/91 G ,  H01L 29/28

前のページに戻る